铼靶材用于磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相(PVD)镀膜方式,相比于蒸发镀膜方式,其在很多方面有相当明显的势,作为一项已经发展得较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域,比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了应用。
湖南铼因采用本企业生产的高纯金属铼粉可为用户z业生产加工各种规格溅射靶材,纯度高、密度高、致密均匀、晶粒细,具有良导热性,从而靶材的高率和高利用率。
规格:接受各种产品。
型号:Re-r
价格:电议
型号:Re-i
价格:电议
型号:Me-r
价格:电议
型号:Me-p
价格:电议
型号:Me
价格:电议
型号:W-25Re
价格:电议
型号:WRe-t
价格:电议
型号:Wre
价格:电议
型号: K465i、K700、A7
价格:电议
型号:Re-t
价格:电议
型号:Re-s
价格:电议
型号: Re-np
价格:电议
型号:Re-p
价格:电议
型号:Re-i
价格:电议
型号:Re-r
价格:电议
型号:咨询厂家
价格:8000-9000