高纯氧化铪烧结颗粒，镀膜氧化铪圆片4N电子束镀膜

• 型 号： 20181129
• 品 牌：
• 价 格：1000
• 产 能：根据订货量
• 起订：10
• 交货期：双方洽谈商定
• 发布：蒂姆（北京）新材料科技有限公司  
• 联系人：张慧慧
• 主营：光学镀膜材料，溅射靶材，金属粉末，金属块，钨舟
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产品详情

二氧化铪(分子式：HfO2)
品类	主要尺寸		颜色	纯度	包装	保存方式
晶体	颗粒	1-3 mm；3-5 mm	透明	99.99%	1公斤/袋	避光避酸干燥保存
烧结	压片	Ф10mm或颗粒	白色
产品参数:
CAS编号	密度（g/cm3）	熔点(℃)	折射率(550nm)	透明波度(μm)	蒸发源
12055-23-1	9.7	2812℃	n=2	0.2～9μ	B(W),E
用途	UV增透膜，干涉膜;适于电子枪蒸发，成膜致密稳定。紫外波段的良材料。
备注	规格可根据具体要求

氧化铪，二氧化铪 HFO2 氧化铪 铪氧化物 光学镀膜材料，二氧化铪颗粒 高纯二氧化铪烧结
化学符号：HfO2
外 观：白色
分 子 ：210.49
密 度：9.7g/cm3
熔 点：2500℃
折 射 率（波长/nm）：1.9-2.1（300）
1.84-2.0（2500）
沸 点：5400℃
线膨胀系数：5.8×10-6/℃（250-1300）
10ˉ4真空下蒸发温度为：2500℃
蒸发方式：电子束
透明波段/nm：235-2500
介电常数：20.5-23
比 容：0.05μF/cm2
电容温度系数TCC：（1.25～2.50）×10-4/℃
性 能：适于电子枪蒸发，成膜致密稳定。紫外波段的良材料。不溶于水，耐化学性，但在高温下能与氢氧化物起反应，膜坚硬；
应 用：主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近红外多层膜。
HfO2薄膜是一种绝缘氧化物，即可做薄膜电阻，又可做介子薄膜，一般用溅射法沉积制备。