1200℃气相沉积炉

产品详情

CVD-1200系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字流控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验, 适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥结等。

主要功能和特点：

1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，高真空可达0.0001Pa；

2、可配合压强控制仪控制气体压力，实现负压的控制；

3、数字流控制系统是由多路流计，流显示仪等组成，实现气体的流的精密测和控制；

4、每条气体管路均配备高压逆止阀，保系统的安全性和连续均匀性；

5、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；

6、管路采用Swagelok卡套连接，不漏气；

7、超温、过压时，自动切断加热电源及流计进气，使用安全可靠。

主要技术参数：

YG-1206管式实验电炉	控温方式	采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。
	加热元件	0Cr27Al7Mo2
	工作电源	AC220V 50Hz/60Hz
	额定功率	4kw
	炉管材	高纯石英管
	炉管尺寸	Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
	工作温度	≤1150℃
	高温度	1200℃
	恒温精度	±1℃
	恒温区	200mm
	升温速度	≤10℃/min
	密封方式	不锈钢快速法兰挤压密封
ZK-F 分子泵真空系统	真空范围	0.1-0.001Pa
	极限真空	4.0*10^-4Pa
	产品配置	双级旋片真空泵+分子泵
	测方式	复合真空计
	真空规管	电阻规+电离规
	冷却方式	风冷
	工作电源	AC220V 50/60HZ
	抽速	110L/S
ZDFC-Ⅲ 压强控制系统	测范围	5～1*10^-5 Pa
	稳压(真空)范围	1～5*10^-3Pa
	压力(真空)稳定精度）	±3%
	控制范围	2.510^3～110^-4 Pa
	控制精度	± 1%
HQZ-Ⅲ 混气系统	控制方式	D07-7K流计,D08流显示仪
	流规格	0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）
	线性	±1%
	准确度	±1%
	重复精度	±0.2%.
	响应时间	≤2sec
	耐压	3MPa
	气路通道	3通道（根据客户需求）
	阀	316不锈钢
	管道	Φ6mm不锈钢管
	接口	SwagelokΦ6mm