富士通单片机解密MB96F385RSAPMC芯片解密解密

首先是芯片设计，根据设计的需求，生成的“图样”

1， 芯片的原料晶圆

晶圆的成分是硅，硅是由石英沙所精练出来的，晶圆便是硅元素加以纯化（99.999%），接着是将这些纯硅制成硅晶棒，成为制造集成电路的石英半导体的材料，将其切片是芯片制作具体所需要的晶圆。晶圆越薄，生产的成本越低，但对工艺要求的越高。

2，晶圆涂膜

晶圆涂膜能抵抗氧化以及耐温能力，其材料为光阻的一种。

3，晶圆光刻显影、蚀刻

该过程使用了对紫外光敏感的化学物，即遇紫外光则变软。通过控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光致抗蚀剂，使得其遇紫外光会溶解。这时可以用上份遮光物，使得紫外光直射的部分被溶解，这溶解部分接着可用溶剂将其冲走。这样剩下的部分与遮光物的形状一样了，而这效果正是我们所要的。这样得到我们所需要的二氧化硅层。

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