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氮化铝坩埚

氮化铝坩埚

产品详情

 微观结构 单晶  特性 半导体陶瓷
 规格尺寸 350(mm)  功能 绝缘装置陶瓷
 树型 属性值

氮化铝的特性

具有较高的室温强度,膨胀系数小,导热性能高,可以用作制作高温部件,而且透光性强,可用于制作半透明陶瓷。还可用于要求高强度,高导热场合,如大规模集成电路板,半导体元件。另外,ALN镀膜可制成高频压电元件,超大规模的集成电路片式ALN陶瓷当前主要的用途。

高性能导热功能

机械强度良好

耐冲击性,耐腐蚀性

制作:大尺寸350

常规保有尺寸:¢300,¢150与5-200cc坩埚尺寸

绿加工处理,减少后加工

 

Properties

Unit

ALN

Bulk Density

g/cm3

>3.27

Flexural Strength

MPa

350

Poisson’s Ratio

-

0.24

Vickers Hardness

GPa

13

Thermal Expansion Coefficient(RT-800)

*10-6/

5.5

Thermal Conductivity(RT)

W/mK

160

Specific Heat

J/gK

0.72

Volume Resistivity

?cm

1014

 

苏州同然新材料科技有限公司/曹锦霞

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