镍靶(PVD)磁控溅射

种类	镍板材	材	挪威（N4）鹰桥镍
产地	挪威	规格	2000*160*6MM

目前，德先新材主要对电子行用的新型有金属材料进行开发和生产，其中重要的一项产品为高纯度金属Ni靶材的制造。Ni靶材在材料纯度、加工工艺上有独特的势。德先新材生产的Ni靶材具有以下特点：
（1）材料纯度高，确保Ni>99.9%。原材料采用加拿大或者挪威进口纯Ni，生产过程中进行了杂的严格控制，确保Ni靶的纯度；
（2）晶粒尺寸小。靶材晶粒尺寸可确保小于50μm（微米），组织均匀，适合进行溅射，可提高溅射速率。据客户反应，德先新材制造的细晶粒Ni靶在导电布生产上，比其他靶材可多生产25％以上的产品才需要更换；
（3）尺寸精度高。按照客户要求，对靶材半成品进行严格的机械加工，确保尺寸精度和表面光洁度，保靶材表面的活性；
（4）溅射后靶材表面黑残留物少。表面清洁，杂低。

Si-Al靶

Si含从1%-90%，余为Al,典型产品为Si90%Al10%;Si70%Al30%;Si60%Al40%等。
产品纯度：3N；晶粒尺寸：99.7%；Cr33%Al67%等
产品纯度：3N；晶粒尺寸：<100微米
产品规格：片状125*125*20MM；圆柱状：直径100*40MM