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三级EDI膜堆/EDI设备三级EDI膜堆/EDI设备概念“三级EDI”是本公司为需要生产18~18.2MΩ.cm的超纯水用户而开发的新发明的一种“阳阴混混”组合式EDI膜堆。即一级EDI的纯水室采用阳阴树脂分层填充，二级EDI的纯水室采用除SiO2型电子级混床树脂填充，三级EDI采用除TOC抛光树脂充填。三级EDI膜堆的技术特点是复床式一级EDI功能相当于二级RO功能，可去除一级RO产水中的大部分离子;二级EDI对SiO2有极高的去除率,三级EDI对有机碳TOC有极高的去除率,其终端产水电阻率可稳定达到18~18.2MΩ.cm，TOC<4ppb，SiO2<1ppb。二级EDI膜堆的点◎在原水含盐高达500~1000ppm时，可采用一级RO+三级EDI超纯水工艺制取超纯水而不需要二级RO设备和抛光混床精提纯设备，节约了抛光混床耗品费用，降低系统投资费用，其产水稳定可靠，产水电阻率18~18.2MΩ.cm；◎在原水含盐低于500ppm时，采用一级RO+三级EDI超纯水工艺制取超纯水，其预处理的反渗透膜元件使用寿命可延长1~2年，大大降低预处理RO膜更换的费用；◎无需碱再生，无污水排放，无耗品产生，电再生连续制水，保全天候供水；二级EDI膜堆技术参数◎在原水含盐<1000ppm时，采用一级反渗透产水为三级EDI进水◎TDS：＜30ppm◎pH：6.0～8.0，三级EDI佳工作的pH范围为7±0.5;◎温度：5～35℃,佳工作温度为25℃;◎进水压力：≤4bar（60psi）；◎硬度（以CaCO3计）：＜0.5ppm；◎有机物（TOC）：＜0.5ppm；◎氧化剂：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm；◎变价金属：Fe＜0.02ppm，Mn＜0.04ppm；◎H2S：＜0.01ppm；◎二氧化硅：＜0.5ppm；◎二氧化碳的总：＜10ppm；◎进水电导率：<50μS/cm。