真空退火炉 箱式真空气氛炉 真空管式炉 高温实验电炉

一、真空退火炉用途

真空退火炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。

二、真空退火炉特点

1.微电脑控制，可编程序，30段升温曲线，全自动升温/降温

2.工作环境（抗干扰、1400℃时外壳温度≤30℃大大提高了工作环境）

3.加热元件分布炉膛两侧。

4.可以加多种气体及抽真空，炉顶及炉门水冷。

5.电炉正常使用温度：1400℃ 高使用温度：1450 ℃

6.升温（0—1400℃：35分钟到达；快升温速率40度/min）

7.真空度 10的-6次方帕

三、真空退火炉参数

型号

炉膛尺寸(mm)

(DxWxH)

功率

(KW)

高温度

(℃)

额度温度

（℃）

加热元件

电压

（V）

TDRG4.5/14

200x150x150

4

1400

1300

硅碳棒

220

TDRG12/14

300x200x200

7

1400

1300

硅碳棒

380

TDRG36/14

400x300x300

12

1400

1300

硅碳棒

380

TDRG80/14

500x400x400

18

1400

1300

硅碳棒

380



注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！