小型真空热处理炉 CVD实验真空炉真空式烧结炉实验室设备

产品详情

一、真空热处理炉用途

真空炉热处理适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物成分测等。

二、真空热处炉特点

此设备炉门口安装有水冷系统，气体经过流计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，真空度可达15pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等点，是高校、科研院所、工矿企做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

三、真空热处理炉参数

型号	TDRG-1200	TDRG-1400	TDRG-1600	TDRG-1700
额定温度	≤1100℃	≤1300℃	≤1500℃	≤1600℃
加热元件	电阻丝	硅碳棒	硅钼棒	硅钼棒
测温元件	K型	S型	B型	B型
电源功率	220V/380V 1KW-20KW
控制精度	泄漏率：<5 mtorr /min、温控精度±1℃
升温速率	10℃/Min Max:20℃/Min
正负压力	承受正压：0.05MPa；
真空度	1、若使用VP系列单级旋片机械泵+CF法兰+针型阀，则真空度可达100Pa 2、若使用2XZ系列双级旋转机械泵+KF法兰+真空球阀，则真空度可达10Pa 3、若使用国产或进口分子泵+KF法兰+真空挡板阀，则真空度可达10-3Pa
可充气氛	氮气、氧气和氩气及其它惰性气体、混合气体