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高纯铜颗粒 纯度4N 磁控溅射Cu靶材 蒂姆新材料

高纯铜颗粒 纯度4N 磁控溅射Cu靶材 蒂姆新材料

产品详情

高纯铜颗粒 纯度99.99% 磁控溅射Cu靶材 蒂姆新材料


化学符号:Cu
原 子 :63.546
外观纯铜:紫红色金属
熔 点:1083.4℃
沸 点:2567℃
密 度:8.92g/cm3
蒸 发 源(丝、片):钨、钽、钼、铌
坩 埚:Mo、C、Al2O3
在10-4Torr蒸发温度:1017℃
薄膜的机械和化学性:膜层附着不好,利用中间层Cr可增加附着力;
波长/nm 折射率n 消光系数k 反射率/%
450 0.87 2.2 58.3
500 0.88 2.42 62.5
550 0.76 2.46 66.8
600 0.19 2.98 92.6
800 0.17 4.84 97.3
1000 0.20 6.27 98.0
3000 1.22 7.10 91.2
7000 5.25 40.7 98.8
10250 11.0 60.6 98.8
性 能:地坚韧、有延展并有顺磁性,高纯铜具有良好的导电性、延展性、抗腐蚀能力和表面性能;6N铜在近350K时软化而4N铜在440K时软化;铜在干燥的空气中不易被氧化,但铜子含有CO2的潮湿 空气中,表面与空气中CO2生成一层有毒的碱式碳酸铜(铜绿)这层膜保护铜不在被CO2腐蚀;在空气中加热时表面会与O2形成黑色氧化铜;在盐酸和稀硫酸中不易被溶解,但是铜能溶于具有氧化作用的硝酸或含有氧化剂的盐酸中;还溶于氨水。高纯铜在极低的温度下具有高的导热性,在8K时6N铜的热导率为3.0×104W/(mK),而4N铜在18K时的热导率为3.1×103W/(mK)。高纯铜具有良的加工性能,可以被拉成很细的铜丝,也可以被压制成很薄的铜箔。如果高纯铜中硫含极低,则在600-700K时铜的脆性将消失,而这时普通的铜的脆性还存在。而如杂氧含很低时,高纯铜的氢脆现象也消失。
应 用:保护膜,反射膜,增透膜
1.铜在电气、电子工中应用广、用大,占总消费一半以上。用于各种电缆和导线,电机和变压器的这种,开关以及印刷线路板 在机械和运输车辆制造中,用于制造工阀门和配件 、仪表、滑动轴承、模具、热交换器和泵等。
2.在化学工中应用于制造真空器、蒸馏锅、酿造锅等。
3.在国防工中用以制造子弹、炮弹、枪炮零件等,每生产300万发子弹,需用铜13-14吨。
4.在建筑工中,用做各种管道、管道配件、装饰器件等。
Cu分析报告:
纯度 99.95%
Bi Sb As Fe Ni Pb
0.001 0.002 0.002 0.004 0.002 0.003
Sn S Zn P
0.002 0.004 0.003 0.001
高纯铜颗粒 纯度99.99% 磁控溅射Cu靶材 蒂姆新材料


合金溅射靶材 (规格按要求定做)

钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe

高纯金属材料/真空镀膜材料 (纯度99.9-99.9999%)

高纯金属材料/蒸发镀膜材料(粉末/颗粒////片 可按要求定做 纯度3-6N

Au:高纯金粒,高纯金丝,高纯金片,高纯金粉,高纯金箔,金电极,金棒,金蒸发料

Ag:高纯银粒,高纯银丝,高纯银片,高纯银粉,高纯银箔,银电极,银棒,银蒸发料

Pt:高纯铂粒,高纯铂丝,高纯铂片,高纯铂粉,高纯铂箔,铂电极,铂电偶丝,铂蒸发料

Pd: 高纯钯粒,高纯钯丝,高纯钯片,高纯钯粉,钯电极,钯箔,钯蒸发料

Re:高纯铼粒,高纯铼片,高纯铼粉,铼蒸发料

Rh:高纯铑粒,高纯铑丝,高纯铑粉,铑电极,铑蒸发料

Ru:高纯钌粒,高纯钌丝,高纯钌片,高纯钌粉,钌电极,钌蒸发料

Ir:高纯铱粒,高纯铱丝,高纯铱片,高纯铱粉,铱电极,铱蒸发料


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