蒂姆新材料供应高纯氧化铝晶体颗粒，Al2O3靶材

氧化铝，两性氧化物，能溶于无机酸和碱性溶液中，几乎不溶于水及非极性有机溶剂；相对密度(d204)4.0；熔点2050℃。氧化铝常用作分析试剂、有机溶剂的脱水、吸附剂、有机反应催化剂、研磨剂、抛光剂、冶炼铝的原料、耐火材料。 一、物理性： 化学符号：Al2O3 外 观:透明 密 度：4g/cm3 熔 点：2045℃ 沸 点：2980℃ 蒸发温度：1800℃ 蒸发方式：电子束 透明范围/nm：200-7000 折射率n（波长/nm）：1.59(600)/1.56(1600) 基片温度为300℃时，λ=600nm，n=1.62；λ=1.6μm，n=1.59； 基片温度为40℃时， λ=600nm，n=1.59；λ=1.6μm，n=1.56； 蒸发源材料:W 、Mo 溶 解 于：纯酸、碱 薄膜的机械和化学性：形成光滑的硬膜 性 能：高纯氧化铝具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化、绝缘性好和表面积大等特点；不溶于水，微溶于强酸和强碱溶液，并能被氢氟酸和硫酸氢钾浸蚀； 高纯超细氧化铝的点：纯度高、粒径小、密度大、高温强度大、耐蚀性和易烧结； 应 用：增透膜，多层膜，防反膜，眼镜膜，保护膜 用 途：应用于生物陶瓷、精细陶瓷、化工催化剂、稀土三基色荧光粉、集成电路芯片、航空光源器件、湿敏性传感器及红外吸收材料； 二、主要产品： 1、氧化铝　靶材　99.99％ 常规尺寸：50×3mm；60×4mm；80×5mm；尺寸可定做 用途：磁控溅射镀膜 2、氧化铝　晶体颗粒　99.99％ 常规尺寸：1-3mm； 用途：蒸发镀膜等 3、氧化铝　粉末　99.99％ 常规尺寸：-325目；300目； 用途：研磨剂、抛光剂、耐火材料等 更多产品可咨询客服人员　010-56073481